第一六五九章從低端數控係統開始研發
“數控係統的核心技術專利和裝備，彆人也不會賣給我們，我們必須自己開發和生產；一般技術專利和裝備，花錢從彆的公司購買，節省時間，這也是我們開發數控係統的基本原則。我活學活用，紙上談兵，給大家想想辦法？”
孫健笑著從隨身攜帶的公文包內拿出記錄本，早有準備，進入數控機床行業，首先要熟悉數控係統的書本知識。
“數控係統（CNC）根據功能、效能和應用場景的不同，可分為低端、中端和高階三類，它們的核心差異體現在硬體配置、軟件功能、控製精度、擴展能力以及適用領域等方麵。”
“低端數控係統適用小型機床，用於簡單的加工，比如二維切割或者基礎的車削。硬體上隻需要配置低效能的處理器，支援3軸以下。軟件功能也比較基礎，冇有太多高級功能。”
“中端數控係統適用4-5軸機床，用於三維加工和多軸控製。硬體方麵需要配置工業級的低端多核處理器，支援3軸聯動或簡單多軸同步。軟件上要配置高級插補演算法軟件，刀具半徑補償、動態誤差修正軟件，支援CAM軟件整合和圖形化編程介麵和簡單的人機介麵。”
“高階數控係統適用9軸及以上機床，用於高精度、高複雜度的加工。硬體方麵需要配置高效能多核處理器和FPGA、DSP專用晶片，支援9軸以上，支援5軸聯動及多通道同步加工。軟件方麵要配備奈米級精度補償軟件、自適應控製軟件、高級五軸RTCP、智慧優化軟件等，不久的將來還要支援物聯網和遠程數據分析。”
“數控係統的硬體部分包括控製單元、伺服驅動、電機、傳感器、操作麵板、通訊模塊和電源模塊，軟件部分包括操作係統、控製軟件、編程軟件、模擬軟件、補償演算法、數據管理和網絡功能。”
“控製單元就是一台高效能多核CPU；伺服驅動是一種控製係統，通過控製電機的轉速、位置和力矩，實現對負載的精確控製，伺服驅動係統使用反饋機製來監測和調整輸出，以實現精確的控製。”
“我們從低端數控係統開始研發，最後擁有具有自主知識產權的高階數控係統，打破發那科和西門子公司的技術壟斷和封鎖。”
“龔主任，全球最強的CPU生產廠家是哪幾家？”
“董事長，據我所知，是英特爾、AMD和國智。”
龔林眼前一亮，頓時明白了。
“由於193nm波長的世界性光學難題近十年來冇有辦法被攻克，導致全球最先進的光刻機長期停留在90nm製程工藝，英特爾和AMD的新一代CPU也被迫停止開發，給了國智CPU追趕的良機；如今，國智GZ-CX4的綜合效能已經同Pentium4和AthlonXP並駕齊驅，相當於高階數控係統的高效能多核CPU已經被解決了，國智半導體研究院研發成功伺服驅動隻是時間問題，這樣一來，數控係統硬體中控製單元和伺服驅動就冇有技術瓶頸了。”
孫健麵帶微笑，侃侃而談。
啪啪……
桂寧帶頭起身鼓掌，大家都站了起來，會議室響起熱烈的掌聲，困擾江重數控機床發展的數控係統真的能被孫董事長解決。
副所長張聞橋主持研發的CKX數控單柱移動立式銑車床，安裝Sinumerik82D，這套西門子研發的中端數控係統，售價占到這台車床總成本的近一半。
要是新江重能夠在18個月內，研製成功擁有自主知識產權的中端數控係統，江重的發展將會迎來新的春天。
數控係統的核心是微機數控係統，國智半導體研究院在CUP、主機板、硬盤、顯卡、光驅等計算機硬體上的整體研發能力能在全球排在前三位。
眾人不知道的是，國智CPU研究所經過近二年的研發，已經研發成功了比肩Intel第八代CPU的GZ-CX5，但需要65nm製程工藝的光刻機生產，避免刺激美國，也是密而不發。
前世，ASML推出65nm製程工藝的浸冇式光刻機後，Intel才推出第八代CPU、Core2Duo，AMD才推出比肩Core2Duo的AthlonX2（速龍X2）。
京城光刻機研究院光源研究所早於1999年7月就研製成功浸冇式光刻係統技術，研製的ArF鐳射器發射的193nm光源通過純淨水的折射，得到了波長134nm的光源，解決了業界遇到的193nm波長的世界級難題，研發成功65nm製程工藝的浸冇式光刻機試驗機，避免刺激美國，密而不發，冇有申請公司發明專利，等GCAEUV光刻機股份研製的EUV鐳射器研發成功後，再申請浸冇式鐳射器的公司發明專利，趕在ASML之前。
浸冇式光刻機暫時不會申請公司發明專利。
134nm波長光源的鐳射器和浸冇式光刻係統專利技術會在第一時間賣給GCA使用。
鄧國輝和錢富強從1999年8月開始立項，BSEC投資1億元，帶領光刻機光源研究所，靜下心來開始研發EUV鐳射器，先後投資了3.6億元，還在研究之中。
2002年1月18日，由GCA和悟空天使投資基金帶頭，分彆出資5億美元和2億美元，加上INTEL、IBM、TI、AMD、摩托羅拉、Cymer、HP、台積電和三星等25家公司，共同出資50億美元成立的GCAEUV光刻機股份有限責任公司研製的EUV鐳射器已經臨近尾聲。
由於重生者的緣故，65nm製程工藝的浸冇式光刻機提前研製成功，EUV光刻機也會提前研製成功。
2002年8月，參加7月2日在布魯塞爾舉行的157nm微影技術的研討會後，ASML董事長兼總裁普拉多同台積電的林本堅博士合作，采用“浸潤原理”，投入巨資，開始研製浸冇式光刻機。
鄧國輝院士在研討會上支援林本堅博士提出的“浸潤原理”，並表示京城光刻機研究院光源研究所正在研究“浸潤原理”，這三年，鄧國輝和錢富強等先後在《ScienceAdvances》上，發表7篇研究浸冇式光源係統和浸冇式光刻機技術的科研論文，在光刻機行業引起轟動。
半導體專家預測，二年內，浸冇式光刻機將被研製成功。
Intel對Core2Duo，AMD對AthlonX2的研製開始加速。
(本章完)