第一六六八章1500萬美元一台
“董事長，算上這麼多年的研發費用，一台浸冇式光刻機的成本大概是4200萬元，我們定價多少合適？”
會見後，魏建國和錢國培陪著孫健回到董事長辦公室，兩人有重要事情要請教，也知道董事長每次來都有重要事情要交待。
雖然孫健不管BSEC的日常事務，不在BSEC拿薪水（拿了也白拿），一個月左右纔來一趟，但董事長辦公室常年有人負責做衛生。
“魏總，既然我們率先研發成功65nm製程工藝，就不能好事了那些財大氣粗的晶圓廠，我建議定價1500萬美元一台。”
按照如今的彙率計算，1500萬美元相當於萬元人民幣，一台相當於賺8200萬元！
1500萬美元一台聽起來很貴，但孫健冇有獅子大開口，前世在網上看過一則報道，一台ASML早期生產的二手浸冇式光刻機被國內一家晶圓廠買了回去，花費7500萬元人民幣，原價肯定超過3000萬美元！
作為光刻機龍頭GCA的老闆，孫健對光刻機的定價機製一清二楚，GCA先研發出最先進的製程工藝，就能賺到高額壟斷利潤！等Nikon研發成功相同製程工藝的光刻機，GCA就開始大幅降價，不給對手賺取暴利的機會。
半導體技術的發展日新月異，新技術的不斷湧現推動整個產業的不斷革新，一步先步步先！冇有哪家半導體公司敢停下來，由於光刻機在90nm製程工藝上被卡住了，Intel、AMD和國智CPU也無法升級換代。
由於BSEC和ASML都投入巨資研發浸冇式光刻機，特彆是投入了數億美元研發157nm方案的ASML果斷止損，集中全力同台積電合作，開發浸冇式光刻機，Intel和AMD等美國半導體大廠預測二年內研發成功，Intel和AMD重新啟動最新一代處理器的研發。
13.5nm波長光源的EUV鐳射器研發成功和GCAEUV原型機亮相，雖然光刻機發展的瓶頸問題被完全解除，但GCA宣佈，短時間內無法研發成功EUV光刻機，大家都將眼睛盯在134nm波長光源的浸冇式光刻機上，預測占據全球光刻機技術實力第三位的ASML會率先研發成功製程工藝65nm的浸冇式光刻機。
2002年6月，PGCA半導體公司投資15億美元建成了一條12英寸晶圓、90nm製程工藝的半導體生產線，其中購買光刻機（20台90nm和40台180nm製程工藝的光刻機）花費6億美元，占40%；基建成本花費4.5億美元，占30%。
當初，GCA生產的90nm製程工藝的光刻機剛問世時，INTEL、IBM、TI、AMD和HP先後從GCA定購了一條價值25億美元（包括基建費用）的12英寸晶圓、90nm製程工藝的半導體生產線。
采用BSEC生產的半導體設備建設一條12英寸晶圓、65nm製程工藝的半導體生產線，一般需要20台65nm製程工藝的浸冇式光刻機和40台90nm製程工藝的光刻機，按照一台65nm需要1500萬美元，一台90nm需要500萬美元計算，合計需要5億美元；按照光刻機占到半導體設備價值的40%計算，設備總價值12.5億美元；按照基建成本占到總投資的30%計算，需要5.35億元。
一條12英寸晶圓、65nm製程工藝的半導體生產線的總投資需要17.85億美元，其中設備總投資12.5億美元，這條半導體生產線所需的設備，BSEC如今都能自己生產或能在國內買到，不擔心彆人卡脖子。
重生者苦心積慮，前後佈局了18年。
BSEC下轄光刻機半導體研究院、光刻機公司、矽片製造公司、光刻膠公司、刻蝕機公司、離子注入機公司、熱處理公司、晶片封裝公司和晶片檢測公司。
術業有專攻！
BSEC當初還將單晶矽、光源材料、鐳射器、金屬材料和光刻氣體等243項技術攻關項目，交給了中科院、華清、燕大、哈工大、國科大、華中大學、滬海矽片製造廠、冰城光源材料廠、金城鐳射器製造廠和金城金屬氣體生產廠等56家國企和民企，購買對方的專利技術，成立合資公司，同廠家簽訂了長期供貨合同。
2001年4月，HTIC投資1700萬美元入股了俄羅斯Mikro旗下的金屬材料和光刻氣體公司（占股25%），保障了BSEC所需金屬材料和光刻氣體的長期供應和價格穩定。
曙光通訊集團入股蔡司曙光光學儀器股份公司（占45%），光學鏡頭也有備選方案。
到了孫健這個層次，買全球賣全球是最佳選擇，但作為國內公司，不得不準備好備胎。
嘿嘿……
魏建國和錢國培都笑了，在生意場上，精明的孫董事長從來都不是善茬，如今全球光刻機的市場規模一年也就350台左右，五家平分，一家不到80台，隻賣光刻機早就餓死了！
去年，雖然全球半導體行業復甦，但全球光刻機產業受製於90nm製程工藝的瓶頸，全球半導體設備銷售額隻有223億美元，其中光刻機銷售額隻有60億美元，不到30%，專家預測今年全球半導體設備的銷售額有可能超過300億美元。
一旦BSEC浸冇式光刻機推向市場，全球半導體設備銷售額將會出現爆髮式增長。
“魏總、李副總，我們一邊申請公司發明專利，一邊組織員工加班加點生產，我代表PGCA半導體公司預定一套65nm製程工藝的半導體生產線，其中20台90nm製程工藝的光刻機交給GCA生產。”
PGCA半導體公司是由PENG（占60%）和GCA（占40%）投資成立的中美合資公司，PENG和GCA都是上市公司，法人兼董事長孫健也要兼顧GCA投資者的利益。
“好的，董事長！”
BSEC和GCA的身後老闆都是孫董事長，兩家既是競爭對手也是合作夥伴。
“魏總，一旦通過專家組鑒定後，我們要在第一時間電話告知湯普森先生，將134nm波長光源的鐳射器和浸冇式光刻係統專利技術賣給GCA。”
1993年8月，GCA同BSEC簽訂了磁懸浮式雙工作台係統專利和ArF準分子鐳射器專利互換協定，BSEC如今擁有的134nm波長光源的鐳射器是在ArF準分子鐳射器專利的基礎上研發的，按照雙方簽訂的專利技術轉讓協定，專利技術也屬於GCA，但浸冇式光刻係統專利技術屬於BSEC。就像GCA研製成功多項磁懸浮式雙工作台係統專利技術也屬於BSEC一樣。
(本章完)