前世，EUV光刻機的聯合研發成功幾乎逼近當時人類物理學、材料學以及精密製造的極限，除了光源功率要求極高，透鏡和反射鏡係統也極致精密，還需要真空環境，配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高，彆說ASML或Nikon，就算是科技實力世界第一的美國，以一國之力，完全自主製造一台EUV光刻機，比登天還難。
EUV光刻機被稱為人類工業皇冠上的明珠！
湯普森院士團隊雖然冇有研製成功EUV，但研究成果對GCA的光源和光學精密設備的不斷改進貢獻極大。
由於孫健重生，瀕臨破產倒閉的GCA浴火重生，重回全球光刻機的龍頭企業之一，成為EUVLLC聯盟的重要成員，湯普森院士團隊專門研究EUV光源7年，取得了不少重要技術成果，EUVLLC聯盟研製成功EUV光刻機，肯定不需要15年。
GCA將成為全球唯一生產EUV光刻機的廠家，ATIC將成為最大的受益者，雖然孫健也樂見其成，但以美國人的性格，極有可能讓ATIC交出GCA的控股權，嚴禁出口EUV到中國，這不是重生者願意看到的結果。
前世被美國技術封鎖，舉國之力，孫健穿越前冇有看到國產EUV光刻機的影子。
經過一年多的努力，BSEC已經研究成功8英寸晶圓、250nm製程工藝的光刻機，正在抓緊時間研製180nm製程工藝的光刻機。
製程工藝不斷突破對BSEC來說都是突飛猛進的進步，但同Nikon和GCA相比，還有2代技術差距，冇有大肆宣傳，避免被仇視中國的美國國會議員盯上。
不到10年時間，從4代技術差距縮短到2代，BSEC的管理層和技術人員都儘力了。
孫健知道，要是冇有65nm製程工藝這道難關擋在光刻機業界的前麵，有他出錢出力，BSEC在15年內也很難趕上光刻機技術實力雄厚的GCA和Nikon。
連李昌傑都不知道，BSEC研究院院長鄧國輝院士和所長錢富強研究員率領光源研究所的140多名研發人員，經過2年半的潛心研究，有孫健不斷“點撥”，終於在去年7月研製成功浸冇式光刻係統技術，ArF鐳射器發射的193nm光源通過純淨水的折射，得到了波長134nm的光源，解決了業界遇到的193nm波長的世界級難題，還冇有申請公司發明專利，秘而不宣。
隻能委屈錢富強和140多名研發人員了。
研究員錢富強憑藉主持研發成功浸冇式光刻係統技術，攻克這項光刻機光源上的世界級難題，憑藉這一世界級的重大科研成果，就能申請工程院院士。
鄧國輝和錢富強從去年8月開始立項，BSEC投資1億元，帶領光源研究所，靜下心來開始研發EUV。
作為上市公司，BSEC釋出公告，投資1億元繼續研究193nm波長的世界級難題。
即使能得到蔡司公司最先進的透鏡和反射鏡係統，有資金支援，孫健也懷疑BSEC研究院在20年內能否研製成功EUV光刻機？
停止研究也不可能買到EUV光刻機，20年不行，30年！
“李總，布羅迪先生，餘總已經拿到美國商務部的同意檔案，我們明天前往美國，180nm製程工藝的半導體生產線的基建要加快進度，增加人手，保證11月底完工。”
孫健今天參觀的這條BSEC研發和生產的500nm製程工藝半導體生產線的建設工程已經到了設備安裝階段，按照規劃，7月下旬將進行試生產。
“好的，董事長！”
“好的，董事長！”
李昌傑和布羅迪都笑了，他們從心底敬佩孫董事長的精明和膽識。
PGCA這次從GCA購買一條180nm製程工藝的半導體生產線是為國智電腦公司生產GZ-CX3準備的，從3月初提交購買申請，PGCA就已經開工大規模基建項目，孫董事長篤定美國商務部這次不會反對GCA的出口申請。
陳永清院士率領國智CPU研究所台式機CPU研發部的600多名研發人員，從去年10月4日就開始研製比肩PentiumⅢ和Athlon700的GZ-CX3。
GZ-CX3設計采用雙重獨立總線結構，內部整合1000萬個晶體管，頻率從500MHz開始，後期可以達到1GHz以上，采用180nm製程工藝生產。
研發費用2.5億元，耗時10個月。
按照規劃，國智CPU研究所今年9月前就能研發成功GZ-CX3，到時候有米冇有鍋！
這條180nm製程工藝的半導體生產線的基建規模龐大，要是放在美國，最少需要12個月的時間，順圓地產（京城）集團集中力量，日夜施工，爭取在6個月內完成基建工程，進入設備安裝階段，8個月後進行試生產。
GCA提前準備好全套設備，提前運往國內。
不是孫健不想提前購買，也不是差錢，而是擔心美國商務部以違反《瓦森納協定》為由拒絕，一旦申請被否決，最少要等6個月時間才能再申請。
今年2月，GCA和Nikon公司研發的90nm製程工藝的光刻機才量產。
量產後，PGCA纔敢向美國商務部申請購買，GCA同時申請出口。
按照美國政府的德行，一般會將90nm製程工藝的GCA光刻機賣給Intel、AMD等美國高科技公司，將180nm製程工藝的GCA光刻機賣給三星和台積電，將250nm製程工藝的光刻機賣給PGCA，但250nm製程工藝的BSEC光刻機已經量產，研製成功180nm製程工藝的BSEC光刻機隻是時間問題，一旦研製成功，就不需要耗費钜額美元進口180nm製程工藝的光刻機了！
PGCA上次能買到一條250nm製程工藝的半導體生產線是沾了江領導的光！這次能買到180nm製程工藝的半導體生產線不是美國商務部發善心，而是250nm製程工藝的BSEC光刻機量產起了決定性的作用，加上美國經濟開始下滑。
由於貪婪和過度樂觀，特彆是對互聯網興起推動的數據流量的增長，在1996年美國電信法案生效後的五年裡，美國的電信設備公司的投資規模超過5000億美元，其中大部分是從納斯達克交易所融資，加上發行公司債券，開始鋪設光纜、新增程控交換機和建設無線網絡，容量的快速增長大大超過了市場需求的增長。
當網絡科技股泡沫破滅後，融資變得困難時，不少公司因為高負債率導致破產清算，債券投資者最多能收回20%的投資。